Beschichtungen

Am ISFH stehen mehrere Labor- und Produktions-Prozessanlagen für die Abscheidung von State-of-the-Art Oberflächenpassivierungen zur Verfügung, insbesondere

  • AlOx Abscheidung mittels ALD (Oxford Instruments Lab tool und Solaytec Spatial ALD) sowie mittels ICP PECVD (Singular XP)
  • SiNx Abscheidung für Antireflex oder Decknitrid Anwendungen mittels PECVD (SiNA und Singular)
  • SiOx / SiO2 mittels thermischer Oxidation (Tempress) sowie mittels PECVD (Oxford Instruments Lab Tool und Singular)
  • (p,i,n) a-Si mittels PECVD (Von Ardenne Lab Tool und Singular)

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