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2019

T. F. Wietler, B. Min, S. Reiter, Y. Larionova, R. Reineke-Koch, F. Heinemeyer, R. Brendel, A. Feldhoff, J. Krügener, D. Tetzlaff, and R. Peibst

High Temperature Annealing of ZnO:Al on Passivating POLO Junctions: Impact on Transparency, Conductivity, Junction Passivation, and Interface Stability Artikel

IEEE Journal of Photovoltaics 9 (1), 89-96, (2019), ISSN: 2156-3381.

Abstract | Links | BibTeX | Schlagwörter: passivating contacts, POLO junction, Polycrystalline silicon, thermal treatment, ZnO:Al

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