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2013

T. Dullweber, C. Kranz, B. Beier, B. Veith, J. Schmidt, B. F. P. Roos, O. Hohn, T. Dippell, and R. Brendel

Inductively coupled plasma chemical vapour deposited AlOx/SiNy layer stacks for applications in high-efficiency industrial-type silicon solar cells Artikel

Solar Energy Materials and Solar Cells 112 , 196-201, (2013).

Links | BibTeX | Schlagwörter: AlO, aluminium oxide, Inductively coupled plasma, rear passivation, Screen printing, silicon solar cells

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