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2016

N. Wehmeier, S. Kajari-Schröder, T. Brendemühl, A. Nowack, R. Brendel, and T. Dullweber

Industrial n-type bifacial co-diffused rear emitter solar cells with boron silicate glass as diffusion source and passivation Inproceedings

WIP (Hrsg.): Proceedings of the 32nd European Photovoltaic Solar Energy Conference, 443-446, Munich, Germany, (2016), ISBN: 3-936338-41-8.

Abstract | Links | BibTeX | Schlagwörter: Bifacial, Co-diffusion, n-Type Silicon Solar Cell, PECVD

2013

N. Wehmeier, G. Schraps, H. Wagner, B. Lim, N. -P. Harder, and P. P. Altermatt

Boron-doped PECVD silicon oxides as diffusion sources for simplified high-efficiency solar cell fabrication Inproceedings

WIP (Hrsg.): Proceedings of the 28th European Photovoltaic Solar Energy Conference, 1980-1984, Paris, France, (2013), ISBN: 3-936338-33-7.

Links | BibTeX | Schlagwörter: boron, diffusion, Oxides, PECVD, Simulation

R. Ferré, T. Pernau, F. Schwarz, T. Baier, S. Nölker, B. Huth, S. Rommel, M. Okanovic, G. Gläser, T. Neubert, and T. Dullweber

Recombination and contact properties in metallized rear side regions of PERC cells Inproceedings

WIP (Hrsg.): Proceedings of the 28th European Photovoltaic Solar Energy Conference, 1236-1241, Paris, France, (2013), ISBN: 3-936338-33-7.

Links | BibTeX | Schlagwörter: Back Surface Field, c-Si, High Deposition Rate, laser processing, PECVD

2012

B. F. P. Roos, T. Dippell, O. Hohn, P. Wohlfart, B. Beier, B. Veith-Wolf, M. Siebert, and T. Dullweber

ICP-PECVD production tool for industrial AlOx and Si-based passivation layers Inproceedings

WIP (Hrsg.): Proceedings of the 27th European Photovoltaic Solar Energy Conference, 1684-1687, Frankfurt, Germany, (2012), ISBN: 3-936338-28-0.

Links | BibTeX | Schlagwörter: c-Si, ICP-PECVD, Inductively-Coupled Plasma CVD, Manufacturing and Processing, PECVD

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