Veröffentlichungen

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2016

N. Wehmeier, B. Lim, A. Merkle, A. Tempez, S. Legendre, H. Wagner, A. Nowack, T. Dullweber, and P. P. Altermatt

PECVD BSG diffusion sources for simplified high-efficiency n-PERT BJ and BJBC solar cells Artikel

IEEE Journal of Photovoltaics 6 (1), 119-125, (2016).

Abstract | Links | BibTeX | Schlagwörter: Back-junction back-contact (BJBC) cell, boron, boron diffusion source, codiffusion, Conductivity, Fabrication, Furnaces, n-PERT solar cell, Photovoltaic cells, Plasma measurements, plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) boron silicate glass (BSG), silicon, simulation model

2010

J. Schmidt, B. Veith, F. Werner, D. Zielke, and R. Brendel

Silicon surface passivation by ultrathin Al2O3 films and Al2O3/SiNx stacks Inproceedings

IEEE (Hrsg.): 2010 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference, 000885-000890, Honolulu, HI, USA, (2010), ISSN: 0160-8371.

Links | BibTeX | Schlagwörter: Aluminum oxide, Films, passivation, Plasma measurements, Plasmas, silicon

2008

J. Schmidt, A. Merkle, B. Hoex, M. C. M. van de Sanden, W. M. M. Kessels, and R. Brendel

Atomic-layer-deposited aluminum oxide for the surface passivation of high-efficiency silicon solar cells Inproceedings

IEEE (Hrsg.): 2008 33rd IEEE Photovoltaic Specialists Conference, 1-5, San Diego, CA, USA, (2008), ISSN: 0160-8371.

Links | BibTeX | Schlagwörter: Aluminum oxide, atomic layer deposition, Atomic measurements, Oxidation, passivation, Photovoltaic cells, Plasma measurements, Plasma temperature, Silicon compounds, Velocity measurement

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