Wir laden alle Interessenten am Dienstag, den 04. November 2025, um 14:00 Uhr im großen Vortragssaal des ISFH zum Institutskolloquium ein.
Als Referenten dürfen wir Dr. Stefan Lange vom Fraunhofer CSP (Halle) begrüßen, der zum Thema „Exploring The Effect of LECO on Both-Side Passivated TOPCon Solar Cells“ einen Vortrag halten wird.
Die laserunterstützte Kontaktoptimierung (LECO) ist eine der Schlüsseltechnologien für die Herstellung von hocheffizienten industriellen TOPCon-Solarzellen. Ihr mikrostrukturelles Funktionsprinzip bei PERC-Solarzellen ist bekannt und wurde kürzlich für die Vorderseite von industriellen TOPCon-Solarzellen mit diffundiertem Bor-Emitter beschrieben. Detaillierte vor- und rückseitenspezifische Untersuchungen des LECO-Effekts auf die Kontakt- und Passivierungseigenschaften fehlen jedoch. Hier schließen wir diese Lücke, indem wir LECO-Parameterstudien durchführen und umfassende Leistungsdaten von TOPCon-Zellen mit entweder diffundiertem Bor-Emitter oder selektiver p+ Poly-Si/SiO2-Vorderseite und n-TOPCon-Rückseite liefern. Durch die Entwicklung einer Kontrastätzung, eines Präparationsansatzes für großflächige Querschnitte und eines angepassten FIB-Präparationsprotokolls konnten wir erstmals strombefeuerte Kontakte (CFC) auf TOPCon-Schichten identifizieren und deren Nanostruktur untersuchen. Es wird deutlich, dass sich die Kontaktbildung grundlegend von den nicht-LECO TOPCon-Kontakten unterscheidet. Wir zeigen, dass die Effizienzverbesserung der Zellen durch LECO auf die Verringerung des Ag/Poly-Si-Kontaktwiderstandes zurückzuführen ist und dass LECO zu einer starken Verschlechterung der Passivierungsqualität führen kann, wenn es nicht richtig optimiert wird.
Zu dieser Veranstaltung sind alle Institutsangehörigen, ebenso Freunde des Hauses und auswärtige Gäste, sehr herzlich eingeladen. Im Anschluss an den Vortrag besteht wie gewohnt die Gelegenheit zu Fragen, Diskussion und zum persönlichen Austausch.
Wir freuen uns auf Ihre Teilnahme und einen spannenden Nachmittag im Zeichen von Wissenschaft und Dialog.